[资料] 基于纳米压印的wafer级超透镜大批量制备

本帖最后由 dxp19952023 于 2023-4-27 09:04 编辑

韩国浦项科技大学Junsuk Rho教授近期发表在Nature Materials上的一篇论文。其特点如下：①采用纳米压印技术完成大批量制备；
②借助ArF scanner完成曝光，然后将图形转移到全硅母模上以备刻蚀。
③光刻胶折射率低，论文在侧壁上镀了TiO2膜以增强其对光的局域能力，降低单元之间的耦合
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尚存的问题：
a.其批量制备方法是纳米压印，而当前纳米压印的工艺无法制备高深宽比结构，恰好纳米压印的低折射率深宽比尤其高。因此论文采用了几何相位
b.其采用的ArF设备成本非常高
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一点拙见：推测后续可见光、近红外超表面的制备还是会走半导体制程，这样才能在做好的同时做快，将成本降下来；而像倾斜光栅这种结构会采用纳米压印。

做了3年的纳米压印，感觉很坑啊，PPT多，落地的少

是的啊大兄弟，微纳雷竞技下载找ray666点vip这方面要踩的坑太多了！

微纳刚入坑，老板要设计超薄透镜，然后压印出来，我头发都要薅秃了

难顶哈哈哈

楼主有这方面的书籍资料或者设计实例吗，推荐一下（最好是中文的）

可以看看DOE的，这些书籍网上到处都是。超透镜相关的目前还没有，论文方面国外可以关注Capasso组，国内香港城市大学蔡定平课题组，南京大学李涛+王漱明课题组，中山大学董建文课题组。

请问有没有看过《纳米压印技术》这本书的

我尝试做传播相位，感觉几乎不太可能做出来。

不仅是深宽比吧，做仿真感觉长宽比的限制也比较大。