[求助] zemax序列模式中系统NA、高斯切趾的定义和POP中光束定义的区别

本帖最后由 yzl 于 2022-4-29 13:37 编辑

我是这样理解的，不知道对不对。。。
首先，系统NA定义就固定了光源的发散角，X Y方向一样的发散角，选用高斯类型，但X Y方向光源仍然是一模一样，再切趾仅代表均匀度，最后用渐晕来控制X Y的实际发散角，就是拦截，来得到你要模拟的高斯光。
渐晕因子是用于描述不同视场位置渐晕后的有效入瞳尺寸和位置的系数 使用以下五个渐晕因子：VDX、VDY、VCX、VCY 和 VAN。这五个因子分别表示偏心 x、偏心 y、压缩x、压缩 y 和切向角。
其次，POP是直接根据物理公式进行推算得到的高斯光。后者更准确。感觉这与LD的两种设置是一一对应的，空间分布和像散分布。

若不对，请忽视。

本帖最后由 Wayne_1991 于 2022-5-2 00:45 编辑

多谢发散讨论，五一有时间找了一遍资料发现这个解读比较好，发出来供大家参考。宇熠是OS的分销商之一，类似南京光研。http://www.ueotek.com/solution_detail.php?solution_id=111

按我的理解就是POP和光纤耦合工具箱的光源设置是独立于系统选项的，系统选项的设置是用于定义雷竞技下载找ray666点vip尺寸、视场等条件，POP和是在系统设置的大环境基础之上基于波前传播算法计算分析模式匹配，有独立设置的光源。