光栅建模

SYNOPSYS中光栅表面输入格式：
SN GRATING {X/Y} L/MM ORDER CWAV HIN VNUM
其中，X-衍射发生在X-Z平面；Y-衍射发生在Y－Z平面。Ｌ／ＭＭ－给出了光栅刻线数；ORDER-衍射级次；CWAV-波长；HIN-基底折射率；
VNUM-相应的阿贝数；
例子:
RLE
ID GRATING_REAL FLAT  
WAVL .6000000 .5000000 .4000000
APS               1
POLARIZATION LINEAR Y
UNITS MM  
OBB  0.000000   10.00000    1.00000    0.00000    0.00000    0.00000    1.00000
  0 AIR
  1 GRA  Y       500.0000   -1       0.500000      1.500000     50.000000
  2 COATING PERF
  2 CV      0.0000000000000   TH  1.00000000E-06
  2 N1 1.51628919 N2 1.52140818 N3 1.53084089
  2 CTE   0.710000E-05
  2 GTB S    'BK7             '
  3 COATING PERF
  3 CV      0.0000000000000   TH    100.00000000 AIR
  3 AIR
  4 CV      0.0000000000000   TH      0.00000000 AIR
  4 AIR
END

PER 0 0 0 0 0                                                                              
PLOT                                                                                       
PUPIL 2 1 5                                                                                
RED                                                                                       
TRACE 1 0 0 5                                                                              
PUPIL 2 1 5                                                                                
LIME                                                                                       
TRACE 2 0 0 5                                                                              
PUPIL 2 1 5                                                                                
BLUE                                                                                       
TRACE 3 0 0 5                                                                              
END  



在这里，定义表面1为一个500线/毫米的光栅，将涂层分配到表面2和表面3上，并显示一个以三个定义波长的光线追迹的透视图。