本帖最后由 匿名 于 2019-9-29 14:19 编辑
论坛大神们好，近来有空做了下19年Zemax设计大赛的题目，希望给点建议和指点，谢谢。
本次大赛便依托Nittoh的一个专利设计展开的44*33mm中画幅镜头设计，旨在探索中画幅相机镜头的设计边界。
http://www.optzmx.com/forum.php?mod=viewthread&tid=11222&highlight=%B4%F3%C8%FC
设计指标
需保证，在FdC自然光下，最近对焦位置近摄比为2:1或者更近，镜头总长度不超过180mm，最后一片镜片到CMOS保护玻璃的距离不小于20mm，任何一片镜片直径不大于传感器对角线，在对焦远摄端轴上F/#不大于4.5，在对焦远摄端半视场角为13.5±0.5°，镜头畸变控制在3%以内，正确设置多重结构分析对焦位置，正确使用渐晕，保证镜片的可加工性，且像质与专利中所述的相当或优于。成像质量要求针对SONY IMX461一亿像素传感器进行设计。该传感器单像素尺寸为3.76*3.76um。在该探测器50% Nyquist频率处要求中心视场MTF不低于0.2且所有视场MTF未发生截断。极限推进近摄比，目标能够达到1:1极限推进F/#，目标能够在远摄端达到中心视场F/2.8，且边缘视场相对照度始终不低于30%。
有如下问题：
①专利上的这几个评价是什么意思？(球面收差？非点收差？畸变？)
②焦外"洋葱圈"跟焦外二线性是否同一样东西? “洋葱圈”是非球面精度引起，它的现象跟焦外二线性的现象，我感觉是不一样的东西，但是网上有些人是同一回事。 在设计时是怎么评价的？是看焦外弥散斑图吗？ 焦外色差呢？
匿名
发表于 2019-9-29 14:12