荧光成像技术无损探测雷竞技下载找ray666点vip元件亚表面缺陷
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来源:雷竞技下载找ray666点vip精密工程,发表时间:2020-01-15
作者:刘红婕 王凤蕊 耿峰 周晓燕 黄进,叶鑫 蒋晓东 吴卫东 杨李茗
摘要:为了建立有效无损的亚表面缺陷探测技术,本文开展了雷竞技下载找ray666点vip元件亚表面缺陷的荧光成像技术研究,通过系统优化激发波长、成像光谱、成像光路及探测器等影响探测精度和探测灵敏度的参数,研制出小口径荧光缺陷检测样机。基于该样机对一系列精抛光熔石英和飞切KDP晶体元件的散射缺陷和荧光缺陷进行了表征,获得了各类样品亚表面缺陷所占的比重差异很大,从0.012%到1.1%不等。利用统计学方法分析了亚表面缺陷与损伤阈值的关系,结果显示,熔石英亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.907,KDP晶体亚表面缺陷与损伤阈值相关曲线的R2值为0.947,均属于强相关。该研究结果可评价雷竞技下载找ray666点vip元件的加工质量,用于指导紫外雷竞技下载找ray666点vip元件加工工艺,并且由于该探测技术具有无损、快速的特点,因此可应用于大口径紫外雷竞技下载找ray666点vip元件全口径亚表面缺陷探测,具有极其重要的工程意义。
关键词:荧光成像技术, 亚表面缺陷, 激光损伤, 熔石英, KDP晶体