[求助] 关于TRACEPRO的反向光线追迹不明白操作方法和原理

我拿一个最简单的模型作为案例，左边面光源的光线经过一个光阑一个透镜到像面上，如果此时追迹光线较多，我嫌正向追迹速度太慢，我想使用反向追迹功能。我应该要怎么做？我目前只是在像面上设置了光出射面，目的是想要收集像面上有一百万条光线时的照度图像，于是我在光出射面设置中设置光线条数为一百万，接着点击反向追迹按钮，发现像面光线只有5400多条，并不是我想的那样。

我想问问对于这个模型，怎么进行反向追迹实现像面上有一百万条光线的结果。

Reverse raytracing的所有光線不會自己回到發光面

可以正向追跡增加光線的方法和簡化模型以外，有沒有考慮用Importance Sampling？

我确实在无法使用反向光线追迹的情况下对表面光源的那个面设置了重点采样，但是速度还是不是很满意，因为机械件比较多，即使只留下了需要的机械件，也花费了五个多小时，也没有足够的光线用于观察像面的均匀性。感谢您的建议！