[求助] [已解决]设置渐晕前后CRA改变

各位大佬好，我的结构在设置渐晕时利用RAID操作数获取的最大视场主光线CRA为18°，再将口径设置为“以表面口径代替渐晕系数”并清除渐晕后，RAID操作数获取的最大视场主光线CRA为22°。由这篇文章（https://zhuanlan.zhihu.com/p/161986657）可知，这种情况可能是由于加了渐晕后RAID操作数所认为的主光线是“设置渐晕后的中心光线”，并不是通过孔径光阑中心的光线。那请问各位大佬，实际CRA是否是以清除渐晕后的值为准？在加了渐晕的情况下（光线并没有充满整个孔径光阑）是否不能再继续使用RAID去监测或优化CRA？在这种情况下怎么去设置评价函数优化CRA比较好呢？感谢！

本帖最后由 我是你 于 2024-3-4 17:29 编辑

原理：设置渐晕的目的就是为了拦掉一些光线，使得像面上每个视场光线收敛的更加好（既有利于成像质量，又防止有光线未聚集导致优化时报错）。

举例：如下面两幅图：第二幅图是更新后的渐晕，像高为3.82mm左右；第一幅图是未更新后的渐晕，像高为3.75mm左右。
设置渐晕前后的1.0F像高不同，1.0F的主光线CRA肯定会不同的，实际加工生产时的CRA是设置渐晕后的主光线CRA（系统本身存在渐晕的前提下）。

感谢回复。所以加了渐晕之后还是可以用RAID操作数对CRA进行监测和控制对吗？

那肯定的呀。假如你设置几个镜片的口径为拦光口径，你更新设置渐晕后，设置的镜片本身就会拦光。实际加工的时候也是一样的，此时的CRA才是真实可靠的。（问题解决的话，请帮忙设置下最佳答案，多谢！）