重点采样问题

问题是这样的：我光源的发散角是120°，经过离轴系统打在透镜上聚焦成像，
非序列模式下，直接建模仿真杂散光，打在像面的光线数非常少；
是否可以用这个重点采样使得聚焦在像面分析的光线数大大增加？
如果可以这个重点采样是怎么设置的？这个方向、尺寸、极值该怎么设置，分别代表什么意思啊？

本帖最后由 路难行1994 于 2023-10-25 17:54 编辑

重点采样区域是从你的散射源看过去的探测器的像，也就是探测器被探测器到散射源之间的雷竞技下载找ray666点vip系统所成的像，可以在这个位置放置一个虚拟面，比如矩形物体，大小和探测器的像一致。重点采样的方向一栏选择刚刚放置的虚拟面的编号，尺寸设置为比虚拟面的对角线稍大。极值是用来限制虚拟面相对散射源所张立体角大小的一个参数，会影响能量分布的准确性，不知道的话就填默认值吧。另外可以对产生的几条散射光线分别设置不同的重点采样方向，就是下面两张图里红框所标出来的，你应该能看懂什么意思吧，我就不多解释了。

我按照你说的这个重点采样去设置最终打在像面的光线数还是没有增加，只有2万条左右，不设置重点采样也是2万条左右；

我设置光源的追记光线数是1e8条，才只有2万条打在像面

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