[求助] 视场中设置渐晕因子后，光线未按预期打到特定位置

本帖最后由 feast 于 2022-10-8 20:53 编辑

各位坛友好，我准备用设置视场渐晕的方法做一个15°*30°发散角的椭圆光源，系统孔径设置30°，视场中VCX设置1-tand(15)/tand(30)，在1mm的距离处看光斑，X方向光斑位置只有248μm，按15°算的话tand(15)是268μm，不知道问题出在哪里了。另外，如果把光线瞄准打开的话是可以让水平光线打到268μm处，不太明白为什么光阑和入瞳重合还要打开光线瞄准。

挺有意思的，初步看了一下没开光线瞄准的话pupil aberration很大，具体里面发生了些什么还得再看看

我懂了，zemax在光线瞄准开启与否的时候对渐晕计算是不一样的。
不开光线瞄准的时候，渐晕是按照归一化来算的，比如你现在设置的是30°的物方孔径角，VCX设置0.5，出来就是30*（1-0.5）=15°；
开启光线瞄准的时候，渐晕才是按照你上面的用tan的计算方式来计算，此时VCX设置0.5，出来的是actan(tan(30)*(1-0.5))=16.10°；

确实不开启光线瞄准时渐晕因子设置0.5，这个我是通过在光阑上设置一个椭圆孔径，然后在视场界面点自动添加渐晕因子得到的结果，但是光阑面的椭圆孔径我还是按照tan(15)，和tan(30)大小设置的。另外你可以试下系统孔径30°设置为NA0.5，再设置0.5的渐晕因子，角度都又不对了。

确实，而且用NA的时候pupil aberration也为0了，瞄准开不开都一样了。