反转镜头后公差分析请教

设计了一个投影镜头，放大10倍，芯片的像元尺寸是5um。
先是用成缩小状态的形式进行设计，设计出来满足要求，公差分析RMS半径90%<2.5um。
但是镜头实际上是放大状态下使用的，反转镜头后公差分析很差，做不到90%<25um。甚至90%<50um了。
为什么反转后会这么差，如果按放大来设计，比较难设计，而且公差分析特别敏感。那我应该是哪个状态下设计呢？

投影镜头都是反过来设计的，镜头反转与否并不会改变加工的rms，这个值与工艺有关，为何反转变成25um

我反向优化的公差分析rms半径是2.5um，10倍镜头，那么正向的话就应该是rms半径25um了。因为我实际的目标是正向使用的时候弥散直径在50um内。
现在是反向设计的时候满足公差分析rms半径2.5um以内了，但反向公差分析的时候莫名其妙的连折射率对公差分析都会产生很大的影响。

不太清楚你缩小后带来了哪方面的优化收益导致你觉得缩小的系统比放大的系统好优，不如先检查一下要求的各项参数你放大后的系统是否达到了

缩小后的镜头好设计啊。各项参数放大情况下能达标啊，就是公差分析差。今天我还看了些别人的投影镜头，和zebase里的投影镜头，都是以缩小来设计的，然后反转成放大系统后（放大倍率比较大的），公差分析都比较差。可能就这样吧。